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第401章 光刻之盟（第2页）

“光线在穿过掩膜版时，会发生衍射和干涉，导致投射到硅片上的图形发生畸变。本来是直角的电路，印出来变成了圆角；本来是分开的线条，印出来粘连在了一起。”林远顿了顿，继续说道，“为了修正这种畸变，我们需要光学邻近效应修正技术，也就是OPC。”

“通过极其复杂的数学算法，反向计算出掩膜版上应该有的形状。这需要海量的算力，和对光刻机光源特性的绝对了解。”

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林远看着马丁，语气变得极其郑重：“我们有昆吾平台，我们有燕山超算的E级算力，我们有盘古AI大模型。但是，我们没有ASML光刻机的光源模型数据。”

“你们的光源，波长漂移、光强分布、相干性等各项参数是保密的。没有这些数据，我们的OPC算法就是瞎子。”

“我的提议是：成立启明-ASML联合计算光刻实验室。”

“我们出算力、AI算法以及昆吾EDA平台中的OPC引擎；你们出光源模型数据、透镜像差数据以及光刻胶的光化学反应模型数据。”

“目标是开发一套全新的，基于AI的逆向光刻技术系统。”

林远的眼中闪烁着精光，那是猎人看到猎物即将落网时的兴奋：“这套系统不需要EUV。它能让现有的DUV光刻机，通过多重曝光和极致的软件修正，生产出7纳米，甚至5纳米的芯片！”

“这就是——软件定义制造！”

整个会议室陷入了死一般的寂静。

马丁的手在微微颤抖。作为全球最顶尖的光刻机专家，他太清楚这个方案的可行性了。DUV光刻机的物理波长是193nm，通过浸没式技术可以等效为134nm。理论上，通过多重曝光确实可以做到7nm。

但其代价是掩膜版的设计复杂度呈指数级上升，计算量大到惊人。传统的软件处理一张7nm的全芯片版图，需要跑上几天几夜。

但如果有中国那近乎无限的廉价算力和基于GPU加速的AI算法？

也许，真的可以！

“这不违反瓦森纳协定。”林远的律师高翔适时地补了一句，“我们交换的是数学模型和算法，不是实体设备。这是科学研究。”

温彼得闭上眼睛，在脑海中飞快地权衡利弊。拒绝，意味着失去光子芯片的未来，而且中国人可能会自己摸索出这套算法，虽然慢一点，但迟早会做出来。同意，不仅能获得光子技术的门票，还能通过卖软件服务和老旧的DUV设备，在中国市场再赚一笔巨款。

“……成交。”

温彼得睁开眼，做出了决定：“但是，我有两个条件。第一，这个实验室注册在新加坡，数据不出境。第二，ASML拥有这套系统的海外独家销售权。”

“没问题。”林远笑了。

他要的本来就不是海外市场，他要的是能不能造出来。

……

协议签署后，代号为女娲的项目在新加坡地下的数据中心秘密启动。女娲炼石补天，他们要修补的，是光刻技术的物理缺陷。

这不仅仅是写代码，这是在用数学挑战物理学的极限。

汪韬带领的算法团队，和汉斯带领的工业软件团队，在这里进行了为期三个月的地狱式攻关。

最先横亘在他们面前的，是计算量的爆炸。

传统的OPC是基于规则的，比如在直角处加个耳朵来修正。而他们要做的逆向光刻，是将掩膜版设计看作一个反向成像的数学优化问题。这好比知道了影子的形状，知道了光的传播规律，要反推出挡光板长什么样。这是一个庞大的非凸优化问题，计算量是传统的百倍。

汪韬没有选择硬算。他训练了一个巨大的光刻成像神经网络，将ASML提供的数亿张掩膜版最终成像的对应图片喂给了AI。

于是，神奇的一幕发生了。AI学会了光的脾气。它不再笨拙地去解复杂的麦克斯韦方程组，而是像一个经验丰富的老工匠，只需要看一眼电路图，就能凭借直觉，直接生成最优的掩膜版图形。计算速度，瞬间提升了五百倍。

紧接着是多重曝光带来的对准误差难题。

要在DUV上做7nm，需要将一层电路拆分成四张掩膜版，曝光四次。这四次曝光，每一次的对准误差都必须控制在2纳米以内。稍有偏差，芯片就报废。

这时候，汉斯的德国团队拿出了看家本领——虚拟量测技术。

他们利用昆吾平台收集的机台传感器数据，实时预测每一次曝光时的晶圆热膨胀和机械微震动。然后在下一次曝光时，通过调整光刻机的透镜参数，进行前馈补偿。这就像是在射击移动靶，还没开枪，就已经预判了靶子的移动轨迹，并提前修正了枪口。

三个月后，江州，江南之芯集团晶圆厂。

一台老旧的ASMLNXT:1980Di光刻机正安静地躺在恒温恒湿的净化车间里。今天，它的灵魂被替换了。

它被刷入了女娲系统生成的全新控制参数，光路系统中装载了一套形状怪异、如同外星文字般的复杂掩膜版。