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第416章 分子幽灵（第4页）
“这就不劳您费心了。”高翔冷冷一笑。
“另外，法官阁下。”
高翔拿出了第二份文件。
“鉴于原告信越/JSR的产品，使用的依然是落后的金刚烷技术。而我方已经掌握了更先进的螺旋酯技术。”
“我们刚刚向USPTO提交了专利申请。经查，原告正在研发的下一代产品，代号X-2026，其技术路径，不幸落入了我们新专利的保护范围。”
“所以，我们提起反诉。”
“我们请求ITC，对原告即将发布的下一代产品，进行预先禁令。”
“理由是潜在侵权。”
轰！
听证会现场炸锅了。
原告变成了被告？
落后者变成了领先者？
抄袭者变成了专利流氓？
这就是技术降维打击带来的法律降维打击。
当你的技术原理已经领先一代时，对方的专利壁垒，就成了马奇诺防线毫无用处，且不仅没用，还成了累赘。
听证会休庭。
走廊里，信越化学的代表拦住了林远。
他的态度从最初的傲慢，变成了谦卑，甚至带着一丝恐惧。
因为他知道，如果那个螺旋酯专利真的被授权，日本光刻胶产业的未来十年，就被锁死了。
他们将不得不向中国公司缴纳专利费，才能生产下一代产品。
这比杀了他们还难受。
“林先生，”日本代表鞠了一躬，“我们要谈谈。关于交叉授权。”
“交叉授权？”林远停下脚步，整理了一下领带。
“你们有什么资格跟我交叉？”
“你们的金刚烷技术，已经是旧时代的残党了。”
“我们……我们有显影液的专利！还有清洗液的！还有底涂层的！”日本代表急切地说道，“如果您不授权给我们，我们也可以在配套试剂上卡死你们！”
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这是最后的挣扎。
互相卡脖子，谁都别想好过。
林远看着他，笑了。
“好啊。”
“那就互相卡吧。”
“我有昆吾做配方优化，我有江钢做原料提纯。给我半年时间，我就能把配套试剂也做出来。”
“但是你们，”林远指了指那个日本代表，“你们如果没有我的螺旋酯授权，你们的下一代EUV光刻胶，就永远别想上市。”
“因为EUV光刻机，只认我的胶。”
林远在ASML的女娲项目中，已经将新光刻胶的参数，写入了光刻机的底层校准文件。
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